[原料配比]
[制备方法]
将各原料溶解在有机溶剂中,混合均匀,制成非水镀银电镀液,溶 液温度为0~80℃。
[原料介绍]
银离子来源物包括氯化银、硝酸银、硫酸银、氧化银、甲基磺酸银、乙酸银、 酒石酸银等银的无机盐以及有机盐中的一种或几种。
配位剂为硫脲和硫氰酸盐中的一种或两种,其中硫氰酸盐为硫氰酸钠、硫氰酸 钾或硫氰酸铵中的一种。
有机溶剂包括N,N'—二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基亚砜、吡啶、苯胺、喹啉、 甲酰胺、乙酰胺、液氨、氯仿、四氯化碳、醇类有机溶剂、醚类有机溶剂或酮类有机溶剂中的一种。
[产品应用]
本品主要应用于装饰性电镀、功能性电镀等领域,特别是在电子芯 片微沟道电镀与纳米材料制备方面有更好的应用。
非水镀银电镀液的电镀步骤为:将经过预处理的金属基底置于电路组成部分的 阴极上,将阴极连同附属基体浸入电镀液中,通以电流,所通电流大小和通电时间 根据实际要求确定。
[产品特性]
采用有机溶液作为镀液的溶剂,配制成非水电镀液,与传统的有氰 镀银工艺相比,采用非水体系电镀,具有以下显著的特点:电位窗口比水体系更宽, 且电镀过程中不会发生析氢、析氧;可以获得比水体系中粒径更小的银粒子簇;该 非水镀银电镀液毒性极低,其镀液稳定性好;镀层中银粒子簇更小,在控制条件下, 平均粒子半径在100nm以内;镀层细致光亮且结合力良好。
本文转载自《金属表面处理剂配方与制备手册》编著 李东光
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