钕铁硼永磁体镀镍及活化是保障其耐用性的关键工艺。活化先清除表面氧化层与杂质,露出洁净基体,提升镀层附着力;后续镀镍形成致密防护层,有效抵御腐蚀、增强耐磨度,让永磁体在各类场景中稳定发挥性能。

工艺条件:温度室温,时间30~40s。
直接在钕铁硼永磁材料上进行电镀比较困难,不易得到质量良好 的镀层。为解决这 一 问题,可以采用上述活化处理,使工件表面处于活 化状态更易镀覆,镀覆后镀层结合力及耐蚀性得到大幅度改善。

工艺条件:pH 值3.8~4.6,温度45~55℃,电流密度2~4A/dm²,时 间 1 0min。
控制时间,使镀层厚度5~6 μm 为佳,通电时,应先加两倍电流1min, 然 后降至正常值。
钕铁硼永磁材料,是20世纪80年代发展起来的第三代功能材料,已在 徽波通讯、音像、仪器仪表、电机工程、计算机磁分离、磁疗等领域得到广泛 应用。
沈阳工业学院化工分院,针对钕铁硼合金存在的镀层结合力及耐蚀性 差等问题,设计了钕铁硼永磁材料电镀新工艺,探索了新的除油液配方,确 定了钕铁硼永磁材料电镀镍的较完整的前处理工艺,用此新工艺,镀层的孔 隙率为0.74个/cm², 盐雾试验达96h, 结合力好,镀层外观细致、平整、光滑、 光亮。

工艺条件:温度80℃,时间1~3min。


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