化学机械抛光液（8）

本品化学机械抛光液（8），有利于减少浅沟槽隔离层的划伤，不仅能提高二氧化硅的去除速率，还能降低氧化硅的去除速率，让二氧化硅与氮化硅起到很好的协调作用。下面科普一下，化学机械抛光液（8）的基础知识。

制备方法 

将掺铝二氧化硅和有机季铵盐加入水中均匀混合，用pH 调节剂调节上述溶液至 pH 值为2～4，得浓溶液；

将水加入到上述浓溶液中，水的加入量为浓溶液质量的1～5倍，得化学机械抛光液。

原料配伍    

本品各组分质量份配比范围为：掺铝二氧化硅6～60、有 机季铵盐0.02～18、孪生季铵盐表面活性剂0.005～0.1、水加至100。

所述的掺铝二氧化硅作为抛光液中的磨料，粒径优选30～50nm，更佳的为45nm。

所述的有机季铵盐，能提高二氧化硅的去除速率，抑制对氮化硅的去除速率。所述的有机季铵盐较佳的为由四个碳原子数为1～4的烷基取代的有机季铵盐，更佳的为四丁基氢氧化铵、四甲基氢氧化铵和四丁基氟化铵中的一种或多种。

所述孪生季铵盐表面活性剂，能够更好地调节二氧化硅与氮化硅的选择比。

根据工艺实际需要，可向本品的抛光液中添加本领域常规添加的辅助性试剂，优选氨基三亚甲基膦酸、亚氨基二乙酸、多亚乙基多胺、氨三乙酸、十二烷基溴化铵、双胍碱和丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物中的一种或多种。这些辅助类试剂能够调节二氧化硅与氮化硅的选择比。

本品的抛光液的pH值优选2～5。

产品应用  

本品主要用作化学机械抛光液。

产品特性

本品的抛光液对浅沟槽隔离层的划伤小，对二氧化硅的去除速率高，可达1000Å/min(1Å=10-10m)以上，对氧化硅的去除速率低，两者选择比可达10 以上。

本品的抛光液磨料含量低，成本低廉。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

 更多表面处理文章，敬请关注公众号：易镀

易镀，一个专业的表面处理技术信息平台，分享金属表面处理/镁合金蚀刻剂/镁合金除油剂/镁合金漂白剂/镁合金转化膜/环保铝除灰剂/铝三价铬钝化剂/低磷化学镍/铝中磷化学镍/高磷化学镍/银光剂/银保护等专业知识，全方位为客户解决各种表面处理难题。

表面处理难题，找易镀，详情请咨询：13600421922（程生）