[原料配比]
[制备方法]
(1)氧化铈复合磨粒的制备:采用均相沉淀法制备,称取5克粒径为30nm的SiO2无机研磨剂粒子,将其分散到100mL水中,随后分别加入10mL浓度为0.6mol/L的CO(NH2)2溶液和10mL浓度为0.3mol/L的(NH4)2Ce(NO3)。溶液; 将配好的混合液倒入三颈烧瓶中,用套式恒温器加热至100℃,并用电动搅拌器搅拌,在搅拌下加热回流反应7h。反应完毕,冷却至室温,将所得沉淀物用离心分离机分离出,并用去离子水洗涤3次;在恒温干燥箱中80℃下烘干,然后进行研磨,得到浅黄色粉体,即为以纳米氧化硅粒子为内核,以氧化铈为外壳的SiO2/CeO2复合磨粒。
(2)由氧化铈复合磨粒制备抛光液:将上述的SiO2/CeO2复合磨粒加入到水中,该复合磨粒的质量分数为2.5%~4%;加入分散剂,用机械搅拌机搅拌,使分散均匀;将上述混合液进一步用超声分散,使形成均匀的分散液;然后加入氧化剂,再加入缓蚀剂、润滑剂,即为纳米SiO2/CeO2复合磨粒抛光液。
[产品应用]
本品主要用作抛光液。
[产品特性]
本品由于无机研磨剂粒子具有氧化铈包覆层外壳,因外壳硬度较低,该核/壳型结构的粒子可以降低在加式、加速抛光条件下抛光微区无机磨粒对工作表面的“硬冲击”。本品的氧化铺复合磨粒具有很小的粒径,并且表现出良好的分散;本抛光液可降低抛光划痕的表面损伤,因而改善和提高了工件抛光后的表面性质量。
本文转载自《金属表面处理剂配方与制备手册》编著 李东光
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