[原料配比]
[制备方法]
首先将制备抛光液的各种组分分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。
[原料介绍]
本品中磨料是指粒径范围为15～100nm的水溶硅溶胶或金属氧化物A12O3、CeO2或TiO2的水溶胶。
本品中表面活性剂采用非离子型表面活性剂，如脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺。
本品中pH调节剂是醇胺、胺碱、四甲基氢氧化铵或季铵碱中的一种或几种的组合。
本品中螯合剂具有水溶性，不含金属离子，可为EDTA、EDTA二钠、羟胺、胺盐和胺中的一种或几种的组合。
[产品应用]
本品主要用作抛光液。
[产品特性]
本品浓缩度高、抛光速率快，平坦度好；粒径小，金属表面损伤小；采用有机碱，无钠离子沾污；采用不含金属离子的鳌合剂，对金属离子有极强的鳌合作用；采用非离子型表面活性剂，使磨料和反应产物容易从金属表面去除；金属表面抛光后杂质颗粒沾污少，容易清洗；耐温性强，在中、低温条件下使用效果良好；无毒、无臭味、无结晶、无沉淀，对人体皮肤无腐蚀作用；抛光液制备简单，容易操作。
本文转载自《金属表面处理剂配方与制备手册》编著 李东光
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