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碱性硅晶片抛光液

2023-06-29 11:00:16        作者:易镀    浏览:

[原料配比]
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[制备方法]

    取磨料,在搅拌条件下依次加入整合剂、pH调节剂、活性剂、去离子水,搅拌充分后即制得本抛光液。

[原料介绍]

    所述磨料是粒径为15~150nm的水溶硅溶胶和金属氧化物的水溶胶,水溶硅溶胶是SiO2,金属氧化物的水溶胶是Al2O3、CeO2或TiO2

    所述螯合剂是具有水溶性和不含金属离子的EDTA、EDTA二钠、羟胺、胺盐或胺。

    所述pH调节剂是氢氧化钠、氢氧化钾、多羟多胺和胺中的一种或两种以上组合。

    所述表面活性剂是非离子型表面活性剂,为脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基醇酰胺或FA/O系列活性剂。

[产品应用]
    本品主要用作抛光液。
[产品特性]

(1)本品是碱性,不腐蚀污染设备,容易清洗。
(2)硅抛光速率快,平整性好,表面质量好。

(3)使用不含金属离子的螯合剂,对有害金属离子的螯合作用增强。

(4)采用非离子型表面活性剂,能对磨料和反应产物从衬底表面有效的吸脱,使抛光后的清洗更加容易。

(5)对环境无污染。

(6)抛光液具有良好的流动性,提高质量传输的一致性,降低表面的粗糙度。
(7)工艺简单,成本低,降低了销售价格,具有良好的商业开发前景。



本文转载自《金属表面处理剂配方与制备手册》编著    李东光
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