[原料配比]
[制备方法]
首先将制备抛光液的磨料、氧化剂、pH值调节剂、螯合剂和去离子水，分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。
[原料介绍]
所述磨料是粒径为15～120nm的水溶硅溶胶或金属氧化物水溶胶。金属氧化物的水溶胶是SiO2、Al2O3、CeO2或TiO2的水溶胶。
所述氧化剂是双氧水、硝酸盐或过硫酸盐。
所述pH调节剂是指氢氧化钠、氢氧化钾、多羟多胺和胺中的一种或两种以上组合。所述螯合剂是具有水溶性且不含金属离子的化合物，如羟胺、胺盐或胺中的一种或两种以上组合。
[产品应用]
本品主要用作抛光液。
[产品特性]
（1）抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易清洗。
（2）金属层钨抛光速率快，可控性好，抛光后平整性好。
（3）使用不含金属离子的整合剂，对有害金属离子的螯合作用强，工艺简单，成本低。
本文转载自《金属表面处理剂配方与制备手册》编著 李东光
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