钨抛光液

[原料配比]

[制备方法]

    将各组分混合，搅拌均匀即可。

[原料介绍]

    本品的pH调节剂为碱性有机胺（如三乙胺和二异丁基胺中至少一种）或有机酸（乙二胺四乙酸和柠檬酸中至少一种）。用来调节抛光液的pH值为2～4，使二氧化硅处于良好的悬浮状态，提供稳定的抛光速率。采用的胺或酸不含金属类成分，避免对硅片的玷污而影响以后的器件性能。

    本品的整合剂为乙二胺四乙酸和柠檬酸及其盐中的至少一种。可以和前制程带入的大量金属离子结合而除去，从而改善抛光片的质量。

    本品的表面活性剂为醇醚类非离子型表面活性剂，如OP—10，TX—10等，可以优先吸附，形成长期易清洗的物理吸附表面，以改善表面状态，同时提高质量传递速率，以降低晶圆的表面粗糙度。

    本品特殊添加剂为聚羧酸和聚酰胺中的至少一种。

[产品应用]

（1）通过对二氧化硅磨料制备时进行改性，二氧化硅颗粒的外面包裹上一层氧化烟，因氧化铝可以氧化硅磨料制备时率和选择性，并在酸性溶液中不易凝胶，而且氧化

铝只是占一小部分，内层大量的二氧化硅能起到缓冲作用，防止刮伤，并解决悬浮问题。

（2）采用在抛光前添加过氧化氢，防止过氧化氢因过早混合而引起分解。

（3）采用了添加特殊添加剂聚羧酸和聚酰胺中至少一种，提高阻挡层抛光速率，对于防止氧化物腐蚀和阻塞回缩，也具有下层氧化物选择性，取得插塞表面局部平坦度和防止附近区域氧化物过量损失。同时，为了进一步减少回缩，最后通过氧化物精抛来提高平坦度。

（4）在使用该抛光液时，先按所配制的抛光液和去离子水的配比为1：10稀释，再加入适量过氧化氢（一般为0.5％～2％）。

本文转载自《金属表面处理剂配方与制备手册》编著    李东光
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