钽化学机械抛光液

[原料配比]

[制备方法]

（1）清洗容器和管道：采用18MΩ以上的超纯去离子水清洗反应器、管道和器具三遍，操作工人身体及手套、口罩及服装进行超净（净化级别：1000级）处理；

（2）将碱性pH调节剂用18MΩ以上超纯去离子水稀释后逐渐加人反应器内的抛光液中，采用负压涡流法进行气体搅拌，其加入量为直至抛光液达到pH值为9～12即可；

（3）将FA／OI型表面活性剂逐渐加入处于负压涡流状态下的反应器内的抛光液中；

（4）在反应器内的抛光液中逐渐加入粒径15～100nm的纳米SiO₂水溶胶（浓度为40％～50％），使其在负压下保持涡流状态进行气体搅拌，直至制成SiO₂水溶液的钽抛光液。

[原料介绍]

    所述反应器的材料由聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲酯制成。

    所述FA／OI型表面活性剂为市售商品，由天津晶岭微电子材料有限公司生产销售；

    所述碱性pH调节剂可以是三乙醇胺、乙二胺等有机碱；
[产品应用]
    本品主要应用于钽化学机械抛光。

[产品特性]
    选用碱性抛光液对设备无腐蚀，硅溶胶稳定性好，解决了酸性抛光被污染重、易凝胶等诸多弊端。利用基片材料的两重性，pH值9以上时，易生成可将性的化合物，从而易脱离表面。采用负压涡流法进行气体搅拌可避免有机物、金属离子、大颗粒等有害污染物的引入，使溶液金属离子含量降低两个数量级；可使纳米硅溶胶在负压下草流状态，防止层流区硅溶胶的凝聚或溶解而无法使用；避免碱性pH调节剂由于局部PH过高而导致凝聚，无法使用。

本文转载自《金属表面处理剂配方与制备手册》编著    李东光
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