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化学机械抛光液(24)

化学机械抛光液(24)

本品主要用作化学机械抛光液。

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原料配比(质量份)

[制备方法]

    制备方法将各组分混合到去离子水中,用碱性pH调节剂(KOH)调节到所需的pH值,即可得到抛光液。

[原料配伍]

    本品各组分质量份配比范围为:研磨颗粒0.1 ~50、次亚磷酸(盐) 0.1~5、表面活性剂50 ~500mg/kg、水加至100。

    所述研磨颗粒选自SiO2、Al2O3ZrO2、CeO2、 SiC、 Fe2O3、 TiO2 和Si3N4中的一种或多种。

    所述的次亚磷酸(H3PO2)或其盐包括金属盐、铵盐、季铵盐。优选金属钾盐。

    所述的表面活性剂包括阳离子型表面活性剂、阴离子型表面活性剂,以及非离子型表面活性剂。优选非离子型表面活性剂,该非离子型表面活性剂优选聚乙二醇( PEG400),平均相对分子质量为380 ~ 420。

    在本品中,化学机械抛光液为碱性,pH值为9~14,较佳地为10~ 12。

[产品应用]

    本品主要用作化学机械抛光液。

[产品特性]

    本品采用全新的配方,各组分之间能更好地协调,对氧化物的去除速度具有更高的提升作用,并且抛光效果也更好。由于抛光速率的提高,减少了抛光时间,提高了生产效率,降低了制造成本。同时,由于抛光速率的提高,可以相对降低抛光液中化学品的用量,继而进步减少环境污染。




本文转载自《金属表面处理剂配方手册》主编    李东光

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