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化学机械抛光液(8)

化学机械抛光液(8)

本品主要用作化学机械抛光液。

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原料配比(质量份)
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[制备方法]

    (1)将掺铝二氧化硅和有机季铵盐加入水中均匀混合,用pH调节剂调节上述溶液至pH为2~4,得浓溶液;

    (2)将水加入到上述浓溶液中,水的加入量为浓溶液质量的1 ~ 5倍,得化学机械抛光液。

[原料配伍]

    本品各组分质量份配比范围为:掺铝二氧化硅6~60、有机季铵盐0.02~18、孪生季铵盐表面活性剂0.005~0.04、水加至100。

    所述的掺铝二氧化硅作为抛光液中的磨料,粒径较佳地为30~50nm,更佳地为45nm。

    所述的有机季铵盐,能提高二氧化硅的去除速率,抑制对氮化硅的去除速率。
    所述的有机季铵盐较佳地为
由四个碳原子数为1 ~4的烷基取代的有机季铵盐,更佳地为四丁基氢氧化铵、四甲基氢氧化铵和四丁基氟化铵中的一种或多种。

    所述双子季铵盐表面活性剂,能够更好地调节二氧化硅与氮化硅的选择比。

    根据工艺实际需要,可向本品的抛光液中添加本领域常规添加的辅助性试剂,较佳地为氨基三亚甲基膦酸、亚氨基二乙酸、多烯多胺、氨三乙酸、十二烷基溴化铵和双胍碱和丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物中的一种或多种。这些辅助类试剂能够调节二氧化硅与氮化硅的选择比。

    本品的抛光液的pH值较佳地为2~ 5。

[产品应用]

    本品主要用作化学机械抛光液。

[产品特性]

    (1)本品的抛光液对浅沟槽隔离层的划伤小,对二氧化硅的去除速率高,对氧化硅的去除速率低,两者选择比可达10以上。

    (2)本品的抛光液磨料含量低,成本低廉。



本文转载自《金属表面处理剂配方手册》主编    李东光

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