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无氰电镀金液(5)

2022-05-12 14:50:32        作者:易镀    浏览:

特性
本品不含有毒性强的氰化物或者其它毒性强的有害物质,因此不会面临污染环境及废液处理困难等问题。本品的无氰镀金电镀液化学稳定性好,配制简单,镀液成本低廉,合而且在电镀过程中不需要除氧,所得镀金层的晶粒细致、光亮且结合力好,能满足装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用。

用途与用法本品主要用作无氰型镀金电镀液。

本品操作条件为:pH范围为10~14,电流密度0.05~0.4A/dm2,温度20<50℃。然后,将处理好的金属基底置于电路组成部分的阴极上,将阴极连同附属基底置于电镀液中,并通以电流,所通的电流大小与时间要根据实际要求而定。

配方(g)

1.jpg
续表
2.jpg

制作方法

先溶解巴比妥或其盐,后在搅拌的情况下把巴比妥或其盐加人到金的无机盐溶液中,然后加入所需的碱、支持电解质和有机多膦酸,混合均匀,即为成品。

注意事项
本品各组分质量(g)配比范围为:金的无机盐10~20,主络合剂巴比妥或其盐30~40,辅助络合剂有机多膦酸10~30,支持电解质5~50,pH调节剂0~50,水加至1L。

所述金的无机盐,为氯金酸盐或者亚硫酸金盐。

所述主络合剂为巴比妥或其盐,辅助络合剂为羟基亚乙基二麟酸(HEDP)、氨基三亚甲基膦酸(ATMP)中的一种。

所述支持电解质为KNO3、NaNO3、KOH中的一种或几种。

所述pH调节剂为KOH、NaOH、氨水、硝酸、硫酸和盐酸中的一种或几种。



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