本品用于二氧化硅介质的抛光液，吸脱作用强，清洗简单，不会污染设备，平整性好，工艺简单，成本低，下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。
制备方法 首先将制备抛光液的水溶硅溶胶磨料、表面活性剂、 pH 调节剂、氧化剂和去离子水，分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室 的环境内，将各种组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐 中并充分搅拌，混合均匀即可。
原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：磨料10～50、表面活性剂 0.01～0.6 、pH 调节剂1～6、氧化剂0.01～15、去离子水28.4～88.98。
磨料是粒径为15～120nm 的水溶硅溶胶或金属氧化物水溶胶。金属 氧化物的水溶胶是SiO₂ 、Al₂O₃ 、CeO₂ 或 TiO₂ 的水溶胶。表面活性剂是非 离子型表面活性剂，是脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺。pH 调节剂是指 氢氧化钠、氢氧化钾、多羟基多胺和胺中的一种或其组合。氧化剂是双氧 水、硝酸铁、硝酸铝、过硫酸盐中的一种或两种以上组合。
产品应用 本品主要用作抛光液。
产品特性 抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易清洗；二氧化硅介 质抛光速率快，平整性好；采用非离子型表面活性剂，能对磨料和反应产 物从衬底表面产生有效的吸脱作用；工艺简单，成本低。
本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著 李东光
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