本品用于砷化镓晶片的抛光液，能对磨料和反应产物起较好的吸脱作用，且清洗简单，不污染环境，抛光效率高。下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。
制备方法 首先将制备抛光液的各种组分分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。
原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：磨料40～750、螯合剂4～30、表面活性剂1～15、pH调节剂4～60、去离子水加至100。
磨料是粒径为15～100nm的水溶硅溶胶或金属氧化物SiO₂、Al₂O₃、CeO₂或TiO₂的水溶胶。螯合剂具有水溶性和不含金属离子，可为ED-TA、EDTA二钠、羟胺、胺盐或胺中的一种或其组合。表面活性剂采用非离子型表面活性剂，如脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺。pH调节剂是指氢氧化钠、氢氧化钾、多羟基多胺和胺中的一种或其组合。
产品应用 本品主要用作抛光液。
产品特性 本品抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易清洗；砷化镓晶片抛光速率快，平整性好；使用不含金属离子的螯合剂，对有害金属离子的螯合作用强；采用非离子型表面活性剂，能对磨料和反应产物从衬底表面产生有效的吸脱作用；工艺简单，成本低。
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