停镀的原理----NiP活性点位被隔离
自催化原理
化学镀镍是自催化反应，只有工件表面存在活性 Ni-P 催化位点，次磷酸钠才能分解产生活性氢、还原镍离子
是谁隔离了NiP活性点位？隔离层的元凶------稳定剂
碘酸钾
锑，铜等
有机稳定剂
碘酸钾停镀的原理
正常浓度：仅吸附少量活性点，抑制槽液自发分解，不影响工件沉积
浓度过高：表面已经铺满一层吸附态 IO₃⁻隔离次磷酸根，勉强维持微弱沉积；
工件大幅度晃动或加入空气搅拌，表面的 IO₃⁻立刻发挥强氧化作用，将活性点氧化，导致停镀
尤其当空载一段时间或工件暴露空气中一小段时间，IO₃⁻的氧化性会将镀层氧化，失去活性
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