教你如何去除镀镍液中铜杂质-易镀表面处理

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铜离子是光亮镀镍液中十分常见的有害杂质，行业标准要求其含量需低于0.01g/L。一旦铜离子超标，会导致工件低电流区域亮度不足，还会让镍镀层变脆、附着力变差，严重影响电镀成品质量，因此及时去除镀液中的铜杂质至关重要。

铜离子是光亮镀镍中较常见的杂质之一。镀液受Cu2+污染，会使镀件低电流密度区光亮度差，过多的Cu2+还会造成镀层脆性增大及结合力不良的弊病。在光亮镀镍液中，ρ（Cu2+）应小于0.01g/L。去除镀液中的Cu2+有以下几种方法。

1）电解法。

即用低电流密度使镀液中的Cu2+沉积在处理阴极板上的方法。用于处理的阴极板有波纹板、锯齿板和平面板三种型式。波纹板在施加一定电流电解时，阴极板上Jκ范围较广，波峰处Jκ较大，波谷处Jκ较小，所以能使Cu2+和其他金属杂质同时沉积，达到去除多种杂质的目的。锯齿形阴极板受尖端效应的影响，电解过程中Ni2+和Cu2+同时沉积，造成镀液中镍盐损失增加。采用平板阴极可以使用不同的Jκ，达到有选择地去除金属杂质的目的。据经验，Jκ为0.5A/dm2时有利于Cu2+在阴极析出。

不论采用哪种型式的阴极进行电解处理都应注意几个问题：

a. 长时间电解处理时，应定时清洗电解板，防止电解板上疏松镀层脱落重新污染镀液；

目前光亮镀镍液去除铜杂质主要有电解法、化学沉淀剂法和螯合剂法三种方式。三种方法各有优劣，其中螯合剂法操作简便、效果优异，是当下主流处理方式。实际生产中可根据镀液污染情况，选择适配方法净化镀液，保障电镀质量。

b. 采用阴极移动或空气搅拌可以提高处理效果；

c. 电解处理中使用的阳极板必须是优质的镍阳极板，否则将影响处理效果，造成不必要的浪费。

2）化学沉淀剂法。

常见的有QT除铜剂，该沉淀剂主要成分是亚铁氰化物，在镀液中与Cu²⁺生成亚铁氰化铜沉淀，然后过滤出沉淀，达到去除铜杂质的目的。此方法的缺点是需要进行精密过滤，比较费时。

3）螯合剂法。

螯合剂一般为芳环或杂环结构的有机物，在镀液中与Cu2+形成螯合物，由于在电解中，螯合物和Ni²⁺共沉积，可以使镀液中ρ（Cu²⁺）不至于上升过高。这种方法简单易行，是目前处理镀镍液中杂质较好和有效的方法。在应用时必须选用优质的螯合剂，特别是要确保不能对镀层产生不良的影响。

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