在正常工艺条件下,封闭处理时封闭溶液向氧化膜孔隙中的扩散速度约1μm/min,氧化膜的厚度通常在10~12gm,故封闭处理时间不少于12~15min即可满足要求,时间过长的弊端是容易出现“粉霜”,时间过短则达不到封闭处理目的。
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