(1)有机溶剂除油,除可以提高除油效果之外,还可减少化学除油时间,从而有利于减轻材料受到碱液的腐蚀程度。

(2)晾干是为渗入到材料孔隙内的有机溶剂挥发,从而可以避免下道烘烤时发生爆炸的危险。

(3)烘烤能促使渗入到孔隙内的有机溶剂和被它所稀释的污物得到充分挥发,给下道化学除油减轻负担。温度80~100min,时间min。

(4)滚光倒角是为除去成型时留下的锋利毛刺和棱角,使材料表面显出光滑。
助磨剂可用瓷珠或刚玉,为润滑和分离吸附物,还可加入适量OP乳化剂之类的清洗剂,使基体上剥离下来的吸附物及时脱离。
滚动转速以30~45r/min为宜,滚光时间需视磁体的形状和表面状态而定,通过实践掌握。

(5)温水清洗有利于上述工序中产生的污物除去。

(6)筛出磨料,以免由此而污染以下工序的溶液纯度。

(7)化学除油的工艺配方要选择合适。化学除油溶液适的工艺配方：

磷酸钠                    30~40g/L             OP乳化剂                3~5ml/L

(Na₃PO₄)                    温度                  60~70℃                                                                                                                                                                                  碳酸钠                    10~15g/L                时间                     去净为止                                                                                                                                       

(Na₂CO₃)  ·  10H₂O

化学除油是必须经过的,电化学除油对质量是不利的。为此化学除油这一工序要认真对待。它兼负着化学除油和电化学除油的双重任务。

(8)沸水中煮过之后在液面上会有许多漂浮物出现,这些污物原是隐藏磁体疏松组织之中的。这一工序对提高镀层的结合强度是极其有利的。

(9)弱腐蚀可以用稀盐酸,但时间不允许过长,故工艺过程中要循序渐进,防止半成品的积压而引起锈蚀。弱腐蚀的工艺配方提供如下:

盐酸(HC1)           15~20mL/L                时间                      20~30s

温度                        室温

(10)封闭处理,封闭处理方法多样,其中利用浸镍后再经化学镀镍是重要的方法之一。

以下工艺是著名电镀专家王瑞祥高级工程师介绍的,实践证明效果良好。

浸镍液配方

硫酸镍                10~20g/L                乳酸(C₃H₆O₇)        5~10g/L

(NiSO₄·7H₂O)      醋酸铅                      0.001g/L

次磷酸钠            10~15g/L        [Pb(CH₃COO)₂·3H₂O]

NaH₂PO₂·H₂O)     pH                            7.5~8

柠檬酸钠            25~30g/L                      温度                 40~50℃

Na₃C₆ H₅ O₇)    沉积速度                   3~5um/H

氟化钠(NaF)        1~2.5g/L

化学镀镍液配方:

氯化镍               16~20g/L             苯果酸(C₄H₆O₃)        10~20g/L

(NiC1₂ · 6H₂O)    醋酸铅                    0.003g/L

次磷酸钠           20~25g/L        [Pb(CH₃COO)₂·3H₂O]

NaH₂PO₂·H₂O)    温度                       >90℃

丁二酸钠           10~20g/L                沉积速度                20~25um/H

(C₄H₄ Na₂O₄)

若镀镍经清洗后带电入槽,并先以两倍于工艺条件的电流冲击

60~90s,然后按正常工艺条件镀至要求厚度。

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