高硫镍镀层中的含硫量一般为0.12％～0.25％之间。由于硫的参与，高硫镍的电极电位向负的方向变化，从而表现出活泼的化学性质，这样作为装饰性镀层组合的中间层，当发生侵入式腐蚀时，使腐蚀面由纵向转变为横向，可以牺牲自己而起到保护里镀层和基体的作用。其与表层镍的电位差在100～140mV之间，具有明显的电化学保护作用。
高硫镍的工艺如下：
硫酸镍 300g／L；
氯化镍 40g／L；
硼酸 40g／L；
苯亚磺酸钠 0.2g/L;
十二烷基硫酸钠 0.05g／L；
高硫镍添加剂 8～12mL／L；
pH值 3.5；
温度 50℃；
阴极电流密度 3～4A／d㎡；
时间 2～3min。
需要注意的是不能将高硫镍的镀液带入到半光亮镍中去，否则半光亮镍的电位会发生负移而使高硫镍失去保护作用。
本文转载自《电镀添加剂技术问答》编著 刘仁志
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