除杂剂是现在电镀添加剂中常用的辅助添加剂之一。从名称上 就可知是除掉镀液中杂质的添加剂。但这里主要指的是金属杂质， 即长期工作的镀液由于各种原因积累的杂质超过镀种工艺的容许浓 度，就会对镀层质量产生不良影响。为了消除这种不良影响，就需 要将带来影响的金属杂质去除。传统的方法是电解去除，但是这样 会影响生产效率，并浪费能源和金属资源，因而常用化学方法使之 还原成金属，然后在镀液中沉淀，再过滤去除。这种方法也需要处 理周期和费时间。因而研制了一类用来消除这类金属杂质影响的添 加剂，称为除杂剂。其实早期的除杂剂也是还原剂类的，利用沉淀 法消除其影响，现在比较普遍的做法是采用隐蔽法，即加入特征络 合能力的添加剂，将目标金属络合而降低其在镀液中的活度。还有 一种方法是让金属杂质与镀层共沉积，由于其杂质浓度不足以构成合金结晶，共沉积不会对镀层带来不良影响。
本文转载自《电镀添加剂技术问答》编著 刘仁志
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