要想改善二次电流分布，就需要了解二次电流分布的实质。电流一经流过一定的电极之间，在两极间的电场就已经形成，镀槽中的电力线分布也基本上确定了。除非改变电解槽形状、电极间距离、电极的截面、形状等所谓几何因素，电力线的分布是不会变化的。事实证明，光靠改变几何因素来调整电力线分布，其作用是有限的。这是因为镀件的几何形状不是可以任意改变的，并且超过了一定几何限度，电力线的分布也不会有所改变。要想达成二次电流分布的效果，需要通过调整镀液的组成，使金属离子还原的过程受到控制，使镀层的分布不同于一次电流分布的结果，从而达到改善二次电流分布的目的。

    一般以下手段有可能改善二次电流分布：

（1）选用合适的络合剂，使金属离子成为络离子，增加其还原的阻力，使高电流区的金属电沉积阻力增加，从而提高低电流区的电沉积速度，改善镀层分布；

（2）选用合适的添加剂，在高电流区吸附而起到阻滞高电流区电沉积的作用，相对提高低电流区的沉积速度，改善镀层分布；（3）采用阴极移动、脉冲电源等物理手段改善阴极过程，使镀层分布趋向均匀等。

    从以上讨论可以看出，二次电流分布这种说法只是借用了电流分布与镀层沉积的正比相关性，方便问题的讨论。有些资料甚至提出了三次电流分布的说法，其实都是指利用更多的手段来进一步改善电沉积物分布。在一定的物理化学状态下，电流的分布本身并没有发生，而是电流的作用发生了变化，或者说电流作用的分配发生了变化。具体地说，是金属沉积的电流效率发生了变化。通常就是高电流区的电流效率下降，而低电流区的电流效率相对提高，从而使金属镀层的分布趋向均匀。从这个意义上说，将二次电流分布说成“二次电流分配”可能更恰当一些。

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