铬层可在盐酸中浸泡去除。而铜镍镀层则适宜在下述溶液中去除：在硝酸钠100～150g／L、柠檬酸钠20～40g／L、醋酸钠30～40g／L、825促进剂3～8mL／L的溶液中，室温～40℃和阳极电流密度10～15A／dm2的条件下退除铜镍镀层。这种方法退速很快、成本低、污染小。825促进剂主要是提高退速且保证镀液长期使用而不失效。当镀层退净时，电流会自动掉下来。
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